中微公司(688012):刻蚀机收入/订单高增,新品加速验证-年报点评

23年营收/净利高增,维持"增持"评级2023年公司实现营收62.64亿元(yoy+32.15％),归母净利17.86亿元(yoy+52.67％);扣非归母净利润预计11.91亿元(yoy+29.58％)。23年非经常性损益约5.94亿元,较上年同期的2.50亿元增加约3.44亿元,主要系公司于2023年出售了部分持有的拓荆科技股票,产生税后净收益约4.06亿元。我们预计公司2024-2026年归母净利润分别为22.9/27.0/32.9亿元。可比公司24年Wind一致预期PE均值为40倍,考虑公司刻蚀设备订单饱满,LPCVD、ALD等新产品进展较快及国产替代空间广阔,给予公司24年45倍PE,目标价166.50元,维持"增持"评级。

   23年刻蚀设备收入/新增订单均高增,薄膜沉积设备初步迈入市场23年公司预计新增订单约83.6亿元,较22年新增订单63.2亿元增加约20.4亿元,同比+32.3％。1)刻蚀设备:23年收入47.0亿元,同比+49.4％,23年新增订单约69.5亿元,同比增长约60.1％;2)MOCVD设备:23年收入约4.6亿元,同比-34.0％,23年新增订单约2.6亿元,受LED终端市场波动影响,同比-72.2％。2023年公司CCP和ICP刻蚀设备在国内主要客户芯片生产线上的占有率均大幅提升;公司TSV硅通孔刻蚀设备逐渐应用在先进封装和MEMS器件生产;且公司深度布局薄膜沉积业务,已实现多种LPCVD设备的研发交付及ALD设备的突破。

   24年公司多产品开始投入市场验证,持续受益于半导体设备国产化加速公司计划在24年推出超过10款新型薄膜沉积设备,在薄膜沉积领域扩大产品覆盖度;公司新开发的硅和锗硅外延EPI设备、晶圆边缘Bevel刻蚀设备等多个新产品也计划在24年投入市场验证;碳化硅功率器件、氮化镓功率器件、Micro-LED等器件所需MOCVD设备取得良好进展,24年将逐步进入市场。同时,公司在南昌约14万平方米的生产和研发基地正式投入使用、上海临港约18万平方米的生产和研发基地部分生产厂房开始投入使用,助力公司销售快速增长。随着海外对中国先进半导体制程的出口限制加剧,中国大陆半导体设备市场规模在全球占比有望逐年提升,具有技术优势的龙头设备公司有望持续受益。

   风险提示:半导体周期性波动,新产品研发不及预期,国外技术管制风险。